真空氣氛爐是一種用于高溫處理材料的熱處理設(shè)備。是利用真空環(huán)境或惰性氣體氛圍將樣品置于高溫下進行熱處理或燒結(jié)。通常由以下部分組成：爐膛、加熱元件、保溫材料、真空泵組、氣體控制系統(tǒng)和溫度控制系統(tǒng)。

　　真空氣氛爐的工作原理是在爐腔這定空間內(nèi)利用真空系統(tǒng)(由真空泵、真空閥門、真空測量儀表、冷阱、管道等部件經(jīng)過精心組裝而成)將爐腔內(nèi)部分物質(zhì)排出，使爐腔內(nèi)壓強小于個標準大氣壓，爐腔內(nèi)空間從而實現(xiàn)真空狀態(tài)，在真空狀態(tài)下通過電熱元件加熱的工業(yè)爐，真空環(huán)境中進行加熱的設(shè)備。

　　與常規(guī)熱處理設(shè)備不同，真空氣氛爐可以通過在爐內(nèi)控制氣氛和壓力來控制熱處理過程中的反應(yīng)氣氛，從而獲得更加精確和高質(zhì)量的熱處理效果。該產(chǎn)品在材料科學、新材料研發(fā)、半導體行業(yè)、金屬制品行業(yè)、陶瓷行業(yè)、玻璃行業(yè)、粉末冶金等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用。例如，真空氣氛爐可以用于半導體硅片的退火和擴散處理，也可以用于鋼鐵、鋁合金等金屬制品的熱處理、氣氛調(diào)節(jié)和表面改性。